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J-GLOBAL ID：200902207290790366   Reference number：06A0714306

Growth and Optical Property of GaSe Thin Film on Silica Glass Fabricated by Electron Beam Deposition

電子ビーム蒸着法により石英ガラス上に作製したGaSeの薄膜成長と光学的性質

Author (4)： OYAMA MASANORI (サンバック) ,  ITO HIROSHI (東京工高専) ,  SATO YUKI (名古屋大 工) ,  TAKEUCHI MANABU (茨城大 工)
Material： 表面技術  (Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
Volume： 57  Issue： 9  Page： 664-669  Publication year： Sep. 01, 2006 
JST Material Number： G0441B  ISSN： 0915-1869  CODEN： HYGIEX  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *electron beam deposition ,...
Semi thesaurus term： *gallium selenide ,...

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JST classification (2)： Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Optical properties of condensed matter in general  (BM08010A)

Reference (11)：

• 1) A. Mercier, E. Mooser and J. P. Voitchovsky ; J. Lumin., 7, 241 (1973).
• 2) N. Kojima, K. Sato, M. Budiman, A. Yamada, M. Konagai, K. Takahashi, Y. Nakamura and O. Nittono ; J. Crystal Growth,150, 1175 (1995).
• 3) L. E. Rumaner, J. L. Gray and F. S. Ohuchi ; J. Crystal Growth,177, 17 (1997).
• 4) N. Kambe ; J. Appl. Phys., 15, 2697 (1991).
• 5) R. Rudolph, Y. Tomm, C. Pettenkofer, A. Klein and W. Jaegermann ; Appl. Phys. Lett., 76, 1101 (2000).

Terms in the title (6)： 電子ビーム蒸着 ,  石英ガラス ,  作製 ,  GaSe ,  薄膜成長 ,  光学的性質