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J-GLOBAL ID：200902209108288670   Reference number：09A0296925

Plasma Enhanced CVD and Plasma Chemical Etching at Atmospheric Pressure for Continuous Processing of Crystalline Silicon Solar Wafers

結晶性シリコン太陽電池ウエハーの連続工程における大気圧下のプラズマ強化CVDとプラズマ化学エッチング

Author (15)： LOPEZ E. (Fraunhofer Inst. Werkstoff- und Strahltechnik(IWS), Dresden, DEU) ,  DRESLER B. (Fraunhofer Inst. Werkstoff- und Strahltechnik(IWS), Dresden, DEU) ,  MAEDER G. (Fraunhofer Inst. Werkstoff- und Strahltechnik(IWS), Dresden, DEU) ,  DANI I. (Fraunhofer Inst. Werkstoff- und Strahltechnik(IWS), Dresden, DEU) ,  HOPFE V. (Fraunhofer Inst. Werkstoff- und Strahltechnik(IWS), Dresden, DEU) ,  KASKEL S. (Fraunhofer Inst. Werkstoff- und Strahltechnik(IWS), Dresden, DEU) ,  HEINTZE M. (Centrotherm Photovoltaics GmbH & Co. KG, Blaubeuren, DEU) ,  MOELLER R. (Centrotherm Photovoltaics GmbH & Co. KG, Blaubeuren, DEU) ,  WANKA H. (Centrotherm Photovoltaics GmbH & Co. KG, Blaubeuren, DEU) ,  KIRSCHMANN M. (Q-Cells AG, Thalheim, DEU) ,  FRENCK J. (Q-Cells AG, Thalheim, DEU) ,  PORUBA A. (Solartec s.r.o., Roznov pod Radhostem, DEU) ,  BARINKA R. (Solartec s.r.o., Roznov pod Radhostem, DEU) ,  DAHL R. (Centrotherm Photovoltaics Technol. GmbH, Konstanz, DEU) ,  NUSSBAUMER H. (Centrotherm Photovoltaics Technol. GmbH, Konstanz, DEU)
Material： Proceedings of the Annual Technical Conference. Society of Vacuum Coaters  (Annual Technical Conference Proceedings. Society of Vacuum Coaters)
Volume： 51st  Page： 622-626  Publication year： 2008 
JST Material Number： E0063B  ISSN： 0737-5921  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *solar cell ,  wafer ,  *plasma CVD ,  *plasma etching ,  antireflection film
Semi thesaurus term： Silicon substrate

JST classification (2)： Solar cell  (NC03084O) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (7)： 結晶性シリコン ,  太陽電池 ,  ウエハー ,  大気圧 ,  プラズマ強化CVD ,  プラズマ ,  化学エッチング