Art

J-GLOBAL ID：200902210573044416   Reference number：06A0340260

Control of Epitaxial Growth Plane of Rh Thin Films on A-Plane Sapphire by Sputter Deposition

スパッタ堆積によるa面サファイア上のRh薄膜エピタキシャル成長平面の制御

Author (3)： KATO Kiyohiko (Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN) ,  SASAKI Katsutaka (Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN) ,  ABE Yoshio (Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 45  Issue： 4A  Page： 2731-2735  Publication year： Apr. 15, 2006 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *thin film ,...
Semi thesaurus term： *rhodium ,...

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=06A0340260&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0520B") }}

JST classification (2)： Metallic thin films  (BK14030T) ,  Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I)

Reference (18)：

• T. Nakamura, Y. Nakao, A. Kamisawa and H. Takasu: Jpn. J. Appl. Phys.34(1995)5184.
• T. Aoyama, S. Yamazaki and K. Imai: Jpn. J. App!. Phys.39(2000)6348.
• K. B. Lee, S. Tirumala and S. B. Desu: Appl. Phys. Lett.74(1999)1484.
• J. R. Duclere, M. Guilloux-Viry, A. Perrin, E.. Cattan, C. Soyer and D. Remiens: Appl. Phys. Lett.81(2002)2067.
• S. Horita, S. Horii and S. Umemoto: Jpn. J. Appl. Phys.37(1998)5141.

Terms in the title (5)： スパッタ堆積 ,  サファイア ,  Rh ,  薄膜 ,  エピタキシャル成長