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J-GLOBAL ID：200902214791564311   Reference number：05A0586453

Control of Photo and Thermal Decomposition of Diazo/PVA and Diazo/PVAc Resist with Inclusion Compounds

包接化合物を用いるジアゾ/PVAとジアゾ/PVAcレジストの光と熱分解の制御

Author (5)： HARADA Kieko (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  KUSHIDA Masahito (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  MIYAKAWA Shinichi (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  TAKAHARA Shigeru (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  SUGITA Kazuyuki (Chiba Univ., Chiba, JPN)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 18  Issue： 2  Page： 187-192  Publication year： 2005 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： clathrate compound ,...

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JST classification (2)： Decomposition,deterioration,degradation of polymers  (CG03010A) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Substance index (3)： Formaldehyde ,  18-Crown-6 ,  Benzenediazonium

Reference (14)：

• 1) H.Iida, "Micro- and Nanopattering Polymers" H.Ito, E.Reichmanis, O.Naramasu and T.Ueno, eds., ACS Symp. Ser.706, Amer. Chem. Soc., Washington, D.C., 1998, pp. 126-133
• 2) K.Harada, M.Kushida, K.Saito, K.Sugita and H.Iida, J. Imaging Sci. and Technol., 46, 159 (2002)
• 3) S.Nonogaki, H.Morishita, Y.Tomita and M.Nishigawa, J.Imaging Sci. and Tecnol., 30, 86 (1986)
• 4) T.Usami, T.Tanaka and S.Ishige, Electrophotography, 26, 115 (1987)
• 5) Y.Yoshida and S. Tatsuta, Electrophotography, 26, 120 (1987)

Terms in the title (4)： 包接化合物 ,  PVAc ,  レジスト ,  熱分解