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J-GLOBAL ID：200902217201910162   Reference number：07A0834156

Porous Silicon Formation by Photoetching in HF/H₂O₂ Solution Using Incoherent Light Source

インコヒーレント光源を用いるHF/H₂O₂溶液中光エッチングによる多孔質シリコン形成

Author (3)： TOMIOKA Seigo (Gunma Univ., Gunma, JPN) ,  MIYAZAKI Takayuki (Gunma Univ., Gunma, JPN) ,  ADACHI Sadao (Gunma Univ., Gunma, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 46  Issue： 8A  Page： 5021-5024  Publication year： Aug. 15, 2007 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： incoherent light ,...
Semi thesaurus term： Si substrate

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (28)：

• A. G. Cullis, L. T. Canham, and P. D. J. Calcott: J. Appl. Phys.82(1997)909.
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• N. Noguchi and I. Suemune: Appl. Phys. Lett.62(1993)1429.

Terms in the title (6)： インコヒーレント光 ,  HF ,  H2O2 ,  溶液 ,  光エッチング ,  多孔質シリコン