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J-GLOBAL ID：200902221352293243   Reference number：06A0474534

High-Rate Growth of Large Diamond by Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition with Newly Designed Substrate Holders

新規設計した基板ホルダを活用したマイクロ波プラズマ化学気相成長法による大型ダイヤモンドの迅速成長法

Author (5)： HORINO Yuji (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Osaka, JPN) ,  CHAYAHARA Akiyoshi (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Osaka, JPN) ,  MOKUNO Yoshiaki (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Osaka, JPN) ,  YAMADA Hideaki (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Osaka, JPN) ,  FUJIMORI Naoji (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Osaka, JPN)
Material： New Diamond and Frontier Carbon Technology  (New Diam Front Carbon Technol)
Volume： 16  Issue： 2  Page： 63-69  Publication year： 2006 
JST Material Number： L1952A  ISSN： 1344-9931  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *Diamond ,...
Semi thesaurus term： epitaxial growth ,...

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JST classification (2)： Carbon and its compounds  (YB02060D) ,  Semiconductor thin films  (BK14040E)

Terms in the title (8)： 設計 ,  基板ホルダ ,  活用 ,  マイクロ波プラズマ ,  化学気相成長法 ,  大型 ,  ダイヤモンド ,  成長