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J-GLOBAL ID：200902225870677174   Reference number：07A1152399

Preparation of carbonaceous thin films by plasma-assisted chemical vapor deposition and their application to energy devices

プラズマCVD法による炭素薄膜の作製とエネルギーデバイスへの展開

Author (5)： FUKUTSUKA TOMOKAZU (兵庫県大 大学院工学研究科) ,  MATSUO YOSHIAKI (兵庫県大 大学院工学研究科) ,  SUGIE YOSOHIRO (兵庫県大 大学院工学研究科) ,  ABE TAKESHI (京大 大学院工学研究科) ,  OGUMI ZEMPACHI (京大 大学院工学研究科)
Material： 炭素
Volume： 2007  Issue： 230  Page： 352-361  Publication year： Nov. 15, 2007 
JST Material Number： G0633A  ISSN： 0371-5345  CODEN： TASOA  Document type： Article
Article type： 文献レビュー  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *plasma CVD ,...
Semi thesaurus term： negative electrode ,...

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JST classification (3)： Carbon and its compounds  (YB02060D) ,  Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  Applications of plasma  (BJ02110K)

Substance index (1)： Acetylene

Reference (81)：

• HIRAI, A. TANSO. 1987, 128, 41-49
• YU, H. A. TANSO. 1997, 178, 101-107
• YU, H. A. TANSO. 1997, 179, 145-152
• YU, H. A. Carbon. 1998, 36, 137-143
• YAMAMOTO, O. TANSO. 1998, 185, 256-261

Terms in the title (5)： プラズマCVD法 ,  炭素薄膜 ,  作製 ,  エネルギーデバイス ,  展開