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J-GLOBAL ID：200902232619265289   Reference number：08A1154423

Fabrication of Mo/Si multilayer mirrors for extreme ultraviolet lithography by means of superconducting bulk magnet magnetron sputtering

極端紫外リソグラフィー用のMo/Si多層膜反射鏡の超伝導バルク磁石マグネトロンスパッタリングによる作製

Author (7)： MIZUTANI U. (Toyota Physical and Chemical Res. Inst., Aichi, JPN) ,  YAMAGUCHI T. (Japan Sci. and Technol. Agency, Nagoya, JPN) ,  IKUTA H. (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  TOMOFUJI T. (Nikon Corp., Kanagawa, JPN) ,  YANAGI Y. (IMRA Material R&D Co., Ltd., Kariya, JPN) ,  ITOH Y. (IMRA Material R&D Co., Ltd., Kariya, JPN) ,  OKA T. (Niigata Univ., Niigata, JPN)
Material： Advances in Superconductivity  (Proceedings of the International Symposium on Superconductivity)
Volume： 20th  Page： 1456-1460  Publication year： 2008 
JST Material Number： L1458A  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *molybdenum ,  *silicon ,  metallic thin film ,  semiconductor thin film ,  multilayer film ,  *thin film growth ,  *magnetron sputtering ,  reflecting mirror ,  *reflection spectrum ,  surface roughness ,  interdiffusion ,  electron microscopy ,  transmission electron microscope ,  atomic force microscope ,  Rutherford back scattering ,  photolithography ,  superconducting magnet ,  reflectivity
Semi thesaurus term： EUV lithography

JST classification (1)： Metallic thin films  (BK14030T)

Terms in the title (10)： 極端紫外 ,  リソグラフィー ,  Mo ,  Si ,  多層膜反射鏡 ,  伝導 ,  バルク ,  磁石 ,  マグネトロンスパッタリング ,  作製