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J-GLOBAL ID：200902241223226816   Reference number：04A0796724

Fluid flow and transport processes in a large area atmospheric pressure stagnation flow CVD reactor for deposition of thin films

薄膜蒸着のための大面積大気圧よどみ流CVDにおける液体流と輸送プロセス

Author (3)： LUO G (Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA) ,  VANKA S P (Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA) ,  GLUMAC N (Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA)
Material： International Journal of Heat and Mass Transfer  (Int J Heat Mass Transfer)
Volume： 47  Issue： 23  Page： 4979-4994  Publication year： Nov. 2004 
JST Material Number： C0390A  ISSN： 0017-9310  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *chemical vapor deposition ,...

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JST classification (2)： Vapor plating  (WC08022K) ,  Mass transfer in equipment and in general  (XD01020J)

Terms in the title (7)： 薄膜蒸着 ,  大面積 ,  大気圧 ,  よどみ流 ,  CVD ,  液体流 ,  輸送プロセス