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J-GLOBAL ID：200902242435354977   Reference number：08A0392912

Recent Progress of Photosensitive Polyimides

感光性ポリイミドの動向

Author (2)： FUKUKAWA Ken-ichi (Material Design Unit, Material Sci. Lab., Mitsui Chemicals, Inc.) ,  UEDA Mitsuru (Dep. of Organic & Polymeric Materials, Graduate School of Sci. and Engineering, Tokyo Inst. of Technol.)
Material： Polymer Journal  (Polym J)
Volume： 40  Issue： 4  Page： 281-296 (J-STAGE)  Publication year： 2008 
JST Material Number： F0612A  ISSN： 0032-3896  CODEN： POLJB8  Document type： Article
Article type： 文献レビュー  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： photoacid generator ,  photobase generator ,  *polyimide ,  photopolymer ,  insulating material ,  pattern formation ,  photosensitive material ,  polyamic acid ,  diazo compound ,  chemically amplified resist ,  insulator ,  *photosensitive polyimide
Semi thesaurus term： ジアゾナフトキノン ,  ネガティブワーキング ,  ポジティブワーキング ,  ポリ(アミド酸) ,  polyamic acid ,  感光性化合物 ,  photosensitive material ,  光化学増幅 ,  低温イミド化

JST classification (2)： Physical properties of polymer solids  (CG02024U) ,  Photosensitive materials  (ZA03020Q)

Reference (90)：

• OMOTE, T. Polyimides : Fundamentals and Applications. 1996, 121
• ASANO, M. Photosensitive Polyimide. 1995, 121
• YODA, N. Polym. Adv. Technol. 1997, 8, 215
• MOCHIZUKI, A. J. Photopolym. Sci. Technol. 2001, 14, 677
• RUBNER, R. J. Photopolym. Sci. Technol. 2004, 17, 685

Terms in the title (2)： 感光性ポリイミド ,  動向