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J-GLOBAL ID：200902243154696603   Reference number：06A0164142

Effects of oxygen ion beam application on crystalline structures of TiO₂ films deposited on Si wafers by an ion beam assisted deposition

イオンビーム支援堆積法によりSiウエハ上に堆積したTiO₂膜の結晶構造に対する酸素イオンビーム照射効果

Author (5)： YOKOTA Katsuhiro (Kansai Univ., Osaka, JPN) ,  YANO Yoshikazu (Kansai Univ., Osaka, JPN) ,  NAKAMURA Kazuhiro (Kansai Univ., Osaka, JPN) ,  OHNISHI Masami (Kansai Univ., Osaka, JPN) ,  MIYASHITA Fumiyoshi (Kansai Univ., Osaka, JPN)
Material： Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms  (Nuclear Instruments and Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
Volume： 242  Issue： 1-2  Page： 393-395  Publication year： Jan. 2006 
JST Material Number： H0899A  ISSN： 0168-583X  Document type： Article
Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (8)： イオンビーム支援堆積 ,  Siウエハ ,  堆積 ,  TiO2 ,  結晶構造 ,  酸素イオン ,  ビーム ,  照射効果