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J-GLOBAL ID：200902249914195101   Reference number：04A0504167

Influence of Acid Diffusion Length on Line Edge Roughness in KrF Photoresists

KrFフォトレジストにおけるラインエッジ粗さに対する酸拡散長さの影響

Author (8)： KIM J H (Samsung Electronics Co., Ltd., Gyeonggi-Do, KOR) ,  KIM Y-H (Samsung Electronics Co., Ltd., Gyeonggi-Do, KOR) ,  CHON S M (Samsung Electronics Co., Ltd., Gyeonggi-Do, KOR) ,  NAGAI T (JSR Corp., Mie, JPN) ,  NODA M (JSR Corp., Mie, JPN) ,  YAMAGUCHI Y (JSR Corp., Mie, JPN) ,  MAKITA Y (JSR Corp., Mie, JPN) ,  NEMOTO H (JSR Corp., Mie, JPN)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 17  Issue： 3  Page： 379-384  Publication year： 2004 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： krypton fluoride ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Substance index (1)： 4-Vinylphenol

Reference (13)：

• 1. Y.-S. Kim, Y. Kim, S.-H. Lee, Y.-G. Yim, D.-B. Kim, J.-H. Kim, Proc. SPIE 4690 (2002) 829
• 2. S.-J. Choi, Y.-J. Choi, Y.-S. Kim, S.-D. Kim, D.-B. Kim, J.-H. Kim, Proc. SPIE 4345 (2001) 94.
• 3. M. Watanabe, S. Yabe, S. Machida, and T. Taguchi., Journal of Photopolymer Science and Technology, 12 (1999) 643.
• 4. J. Cobb, et al., Proc. SPIE 4690 (2002) 277.
• 5. B.J. Rice, H. Cao, M. Chandhok, and R. Meagley, Proc. SPIE, 5039 (2003) 384.

Terms in the title (4)： フォトレジスト ,  ラインエッジ粗さ ,  酸 ,  拡散