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J-GLOBAL ID：200902250093102264   Reference number：04A0442451

Preparation of Amorphous Hydrogenated Carbon Films by RF Sputtering at a Low-Hydrogen-Flow-Rate Region for Hydrogen-Reactive Substrates

水素反応性基板に対する低水素フロー速度領域でのRFスパッタリングによる無定形の水素化炭素膜の合成

Author (5)： OSHIRO T (Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN) ,  YAMAZATO M (Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN) ,  HIGA A (Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN) ,  MAEHAMA T (Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN) ,  TOGUCHI M (Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 43  Issue： 5A  Page： 2640-2644  Publication year： May. 15, 2004 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *carbon ,...

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JST classification (2)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  Materials of solid-state devices  (NC03020K)

Reference (14)：

• 1) M. K. Fung, K. H. Lai, H. L. Lai, C. Y. Chan, N. B. Wong, I. Bello, C. S. Lee and S. T. Lee: Diam. Relat. Mater. 9 (2000) 815.
• 2) A. Grill: Diam. Relat. Mater. 8 (1999) 428.
• 3) A. Grill: Diam. Relat. Mater. 10 (2001) 234.
• 4) P. W. May, S. Hohn, W. N. Wang and N. A. Fox: Appl. Phys. Lett. 72 (1998) 2182.
• 5) B. Popescu, C. Verney, E. A. Davis, V. Paret and A. Brunet-Bruneau: J. Non-Cryst. Solids 266–269 (2000) 778.

Terms in the title (7)： 水素 ,  反応性基 ,  フロー速度 ,  RFスパッタリング ,  無定形 ,  水素化 ,  炭素膜