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J-GLOBAL ID：200902259682412777   Reference number：09A0812760

New Aspects in Nanofabrication Using Near-Field Photo-Chemical Vapor Deposition

近接場光化学蒸着を用いたナノ作製の新しい展望

Author (7)： KOBAYASHI Kiyoshi (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  KOBAYASHI Kiyoshi (JST-CREST, Kofu, JPN) ,  SATO Arata (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  YATSUI Takashi (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  KAWAZOE Tadashi (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  OHTSU Motoichi (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  OHTSU Motoichi (JST-SORST, Tokyo, JPN)
Material： Applied Physics Express  (APEX)
Volume： 2  Issue： 7  Page： 075504.1-075504.3  Publication year： Jul. 25, 2009 
JST Material Number： F0599C  ISSN： 1882-0778  CODEN： APEPC4  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *near field(optics) ,  *chemical vapor deposition ,  vibrational excitation ,  molecular vibration ,  nanorod ,  cluster ,  model ,  potential ,  *nanostructure ,  dissociation energy ,  desorption
Semi thesaurus term： atomic cluster ,  非調和ポテンシャル ,  nanodot ,  desorption energy

JST classification (1)： Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I)

Reference (14)：

• YAMAMOTO, Y. Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 2173
• KAWAZOE, T. Appl. Phys. Lett. 2001, 79, 1184
• YATSUI, T. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 3651
• TANAKA, Y. Physica E. 2007, 40, 297
• TANAKA, Y. J. Microsc. 2008, 229, 228

Terms in the title (4)： 近接場光 ,  化学蒸着 ,  作製 ,  展望