Art

J-GLOBAL ID：200902261444979259   Reference number：08A0420417

Porous SnO₂ sputtered films with high H₂ sensitivity at low operation temperature

低動作温度で高いH₂感度を有する多孔質SnO₂スパッタ膜

Author (6)： SHEN Yanbai (Fac. of Engineering, Univ. of Toyama, 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN) ,  YAMAZAKI Toshinari (Fac. of Engineering, Univ. of Toyama, 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN) ,  LIU Zhifu (Fac. of Engineering, Univ. of Toyama, 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN) ,  JIN Chengji (Fac. of Engineering, Univ. of Toyama, 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN) ,  KIKUTA Toshio (Fac. of Engineering, Univ. of Toyama, 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN) ,  NAKATANI Noriyuki (Fac. of Engineering, Univ. of Toyama, 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN)
Material： Thin Solid Films
Volume： 516  Issue： 15  Page： 5111-5117  Publication year： Jun. 02, 2008 
JST Material Number： B0899A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： porous medium ,  *tin oxide ,  *magnetron sputtering ,  substrate temperature ,  doping ,  crystallinity ,  crystal grain size ,  density ,  temperature dependence ,  sensitivity (ratio) ,  Schottky barrier ,  Hydrogen ,  *gas sensor ,  thin film growth
Semi thesaurus term： 膜密度

JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Terms in the title (6)： 動作温度 ,  H2 ,  感度 ,  多孔質 ,  SnO2 ,  スパッタ膜