Art

J-GLOBAL ID：200902266798156081   Reference number：03A0471242

MgO deposition using reactive ionized sputtering

反応性イオン化スパッタリングを用いたMgO堆積

Author (4)： MATSUDA Y (Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN) ,  KOYAMA Y (Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN) ,  TASHIRO K (Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN) ,  FUJIYAMA H (Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN)
Material： Thin Solid Films
Volume： 435  Issue： 1/2  Page： 154-160  Publication year： Jul. 01, 2003 
JST Material Number： B0899A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *reactive sputtering ,...

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=03A0471242&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=B0899A") }}

JST classification (2)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I)

Terms in the title (5)： 反応性 ,  イオン化 ,  スパッタリング ,  MgO ,  堆積