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J-GLOBAL ID：200902268170820643   Reference number：03A0508991

Synthesis of i- and g-Line Sensitive Photoacid Generators and Their Application to Photopolymer Systems

i-ライン及びg-ラインに感受性のある光酸発生剤の合成ならびにそれらのフォトポリマシステムへの適用

Author (5)： IWASHIMA C (Kansai Paint Co., Ltd., Kanagawa, JPN) ,  IMAI G (Kansai Paint Co., Ltd., Kanagawa, JPN) ,  OKAMURA H (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  TSUNOOKA M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  SHIRAI M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 16  Issue： 1  Page： 91-96  Publication year： 2003 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *photoacid generator ,...
Semi thesaurus term： *photocrosslinking ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Substance index (5)： NAI-105 ,  1,3-Dioxo-1H-benzo[de]isoquinoline-2(3H)-yl=nonafluorobutane-1-sulfonate ,  Heptadecafluorooctane-1-sulfonic acid 1,3-dihydro-1,3-dioxo-2H-benzo[de]isoquinoline-2-yl ester ,  Nonafluorobutane-1-sulfonic acid 1,3,6-trioxo-1,2,3,6-tetrahydro[1]benzothiopyrano[2,3-e]isoindole-2-yl ester ,  Nonafluorobutane-1-sulfonic acid 1,3,6-trioxo-8-isopropyl-1,2,3,6-tetrahydro[1]benzothiopyrano[2,3-e]isoindole-2-yl ester

Reference (12)：

• 1. M. Shirai, M. Tsunooka, Bull. Chem. Soc. Jpn., 71 (1998) 2483.
• 2. F.M. Houlihan, E. Chin, O. Nalamasu, J.M. Kometani, T.X. Neenan, A. Pangborn, Proc. SPIE., 2195 (1994) 137.
• 3. M.L. Schilling, H.E. Katz, F.M. Houlihan, J.M. Kometani, S.M. Stein, O. Nalamasu Proc. SPIE., 2195 (1994) 182.
• 4. J.V. Crivello, J.H.W. Lam, J. Polym. Sci. Polym. Chem. Ed., 17 (1979) 1047.
• 5. J.V. Crivello, J.H.W. Lam, J. Polym. Sci. Polym. Chem. Ed., 17 (1979) 1059.

Terms in the title (3)： 感受性 ,  光酸発生剤 ,  フォトポリマ