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J-GLOBAL ID：200902271101339390   Reference number：05A0995542

Characterization of amorphous carbon films deposited by surface wave plasma CVD

表面波プラズマCVDにより蒸着した非晶質炭素薄膜の特性化

Author (2)： AKASAKA Hiroki (Dep. of Mechanical Sciences and Engineering, Tokyo Inst. of Technol., 2-12-1 O-Okayama, Meguro-ku, Tokyo, 152-8552, JPN) ,  OHTAKE Naoto (Dep. of Mechanical Sciences and Engineering, Tokyo Inst. of Technol., 2-12-1 O-Okayama, Meguro-ku, Tokyo, 152-8552, JPN)
Material： Diamond and Related Materials  (Diam Relat Mater)
Volume： 14  Issue： 11-12  Page： 1828-1831  Publication year： Nov. 2005 
JST Material Number： W0498A  ISSN： 0925-9635  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： surface wave ,...

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JST classification (2)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  Carbon and its compounds  (YB02060D)

Substance index (1)： Acetylene

Terms in the title (6)： 表面波プラズマ ,  CVD ,  蒸着 ,  非晶質 ,  炭素薄膜 ,  特性化