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J-GLOBAL ID：200902274977880062   Reference number：07A1191176

Growth of TiO₂ thin film by reactive RF magnetron sputtering using oxygen radical

酸素ラジカルを用いた反応性RFマグネトロンスパッタリングによるTiO₂薄膜の成長

Author (7)： OGAWA H. (Dep. of Applied Physics, Tokyo Univ. of Sci., 1-3 Kagurazaka, Shinjuku, Tokyo 162-8601, JPN) ,  HIGUCHI T. (Dep. of Applied Physics, Tokyo Univ. of Sci., 1-3 Kagurazaka, Shinjuku, Tokyo 162-8601, JPN) ,  NAKAMURA A. (Dep. of Applied Physics, Tokyo Univ. of Sci., 1-3 Kagurazaka, Shinjuku, Tokyo 162-8601, JPN) ,  TOKITA S. (Dep. of Applied Physics, Tokyo Univ. of Sci., 1-3 Kagurazaka, Shinjuku, Tokyo 162-8601, JPN) ,  MIYAZAKI D. (Dep. of Applied Physics, Tokyo Univ. of Sci., 1-3 Kagurazaka, Shinjuku, Tokyo 162-8601, JPN) ,  HATTORI T. (Dep. of Applied Physics, Tokyo Univ. of Sci., 1-3 Kagurazaka, Shinjuku, Tokyo 162-8601, JPN) ,  TSUKAMOTO T. (Dep. of Applied Physics, Tokyo Univ. of Sci., 1-3 Kagurazaka, Shinjuku, Tokyo 162-8601, JPN)
Material： Journal of Alloys and Compounds  (J Alloy Compd)
Volume： 449  Issue： 1-2  Page： 375-378  Publication year： Jan. 31, 2008 
JST Material Number： D0083A  ISSN： 0925-8388  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *titanium oxide ,...

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JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Terms in the title (6)： 酸素ラジカル ,  反応性 ,  RFマグネトロンスパッタリング ,  TiO2 ,  薄膜 ,  成長