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J-GLOBAL ID：200902276378915500   Reference number：05A0453769

Structural and Electrical Characterizations of Electrodeposited p-Type Semiconductor Cu₂O Films

電着p型半導体Cu₂O薄膜の構造的および電気的キャラクタリゼーション

Author (8)： MIZUNO Kotaro (Doshisha Univ., Kyoto, JPN) ,  IZAKI Masanobu (Osaka Municipal Technical Res. Inst., Osaka, JPN) ,  MURASE Kuniaki (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  SHINAGAWA Tsutomu (Osaka Municipal Technical Res. Inst., Osaka, JPN) ,  CHIGANE Masaya (Osaka Municipal Technical Res. Inst., Osaka, JPN) ,  INABA Minoru (Doshisha Univ., Kyoto, JPN) ,  TASAKA Akimasa (Doshisha Univ., Kyoto, JPN) ,  AWAKURA Yasuhiro (Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
Material： Journal of the Electrochemical Society  (J Electrochem Soc)
Volume： 152  Issue： 4  Page： C179-C182  Publication year： 2005 
JST Material Number： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： P-type semiconductor ,...

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JST classification (3)： Electrochemical reaction  (CB07050F) ,  Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Bases,metal oxides  (CD01030Z)

Substance index (1)： Lactic acid

Terms in the title (5)： 電着 ,  P型半導体 ,  Cu2O ,  薄膜 ,  キャラクタリゼーション