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J-GLOBAL ID：200902280297082013   Reference number：08A0478971

Microstructure and ferroelectric properties of BaTiO₃ films on LaNiO₃ buffer layers by rf sputtering

rfスパッタリングによるLaNiO₃バッファ層上のBaTiO₃膜のミクロ構造と強誘電性

Author (2)： QIAO Liang (School of Materials Sci. and Engineering, Beijing Univ. of Aeronautics and Astronautics, Xueyuan Road, 37#, Hai Dian ...) ,  BI Xiaofang (School of Materials Sci. and Engineering, Beijing Univ. of Aeronautics and Astronautics, Xueyuan Road, 37#, Hai Dian ...)
Material： Journal of Crystal Growth  (J Cryst Growth)
Volume： 310  Issue： 11  Page： 2780-2784  Publication year： May. 15, 2008 
JST Material Number： B0942A  ISSN： 0022-0248  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *ferroelectricity ,  *barium titanate ,  *sputtered deposition ,  RF sputtering ,  perovskite type crystal ,  ferroelectrics ,  X-Ray Diffraction ,  electrostatic capacity ,  permittivity ,  voltage
Semi thesaurus term： BaTiO3 ,  bias voltage ,  強誘電

JST classification (2)： Ferroelectrics,antiferroelectrics and ferroelasticity  (BM05030B) ,  Oxide thin films  (BK14050P)

Terms in the title (6)： RFスパッタリング ,  LaNiO3 ,  バッファ層 ,  BaTiO3 ,  ミクロ構造 ,  強誘電性