Art

J-GLOBAL ID：200902296617015127   Reference number：09A0796926

Semi-quantitative evaluation of stacking faults in pseudo-hcp thin films by laboratory-scale in-plane x-ray diffraction

実験室規模の面内X線回折による擬hcp薄膜中積層欠陥の半定量的評価

Author (4)： SAITO Shin (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  HASHIMOTO Atsushi (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  HASEGAWA Daiji (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  TAKAHASHI Migaku (Tohoku Univ., Sendai, JPN)
Material： Journal of Physics. D. Applied Physics  (J Phys D)
Volume： 42  Issue： 14  Page： 145007,1-7  Publication year： Jul. 21, 2009 
JST Material Number： B0092B  ISSN： 0022-3727  CODEN： JPAPBE  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *stacking fault ,  X-Ray Diffraction ,  structure ,  *hexagonal system ,  *structure factor ,  *metallic thin film ,  *sputtered deposition ,  substrate (plate) ,  Glass ,  *magnetic anisotropy ,  *lattice defect
Semi thesaurus term： 中間構造

JST classification (1)： Metallic thin films  (BK14030T)

Terms in the title (7)： 実験室 ,  規模 ,  X線回折 ,  HCP ,  薄膜 ,  積層欠陥 ,  定量的評価