Art

J-GLOBAL ID：200902296755445566   Reference number：09A1177238

Deposition of unhydrogenated amorphous carbon films by sublimation of C₆₀ fullerene in electron beam excited plasma

電子ビーム励起プラズマ中C₆₀フラーレンの昇華による非水素化非晶質炭素膜の堆積

Author (2)： VAEZ TAGHAVI Hamed (Dep. of Mechanical Sciences and Engineering, Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN) ,  HIRATA Atsushi (Dep. of Mechanical Sciences and Engineering, Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
Material： Materials Letters  (Mater Lett)
Volume： 64  Issue： 1  Page： 83-85  Publication year： Jan. 15, 2010 
JST Material Number： E0935A  ISSN： 0167-577X  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： carbon material ,  hydrogenation ,  *fullerene C60 ,  *sublimation ,  *electron beam ,  excitation (physics) ,  *plasma ,  substrate (plate) ,  Carbon ,  thin film ,  surface roughness ,  micro structure ,  *DLC film ,  hardness ,  *plasma CVD ,  *amorphous carbon
Semi thesaurus term： plasma deposition ,  *amorphous carbon

JST classification (2)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  Carbon and its compounds  (YB02060D)

Terms in the title (7)： プラズマ ,  C60フラーレン ,  昇華 ,  水素化 ,  非晶質 ,  炭素膜 ,  堆積