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J-GLOBAL ID：200903000145042599

マイクロミラーとマイクロプリズムおよびその製造方法

Inventor：
西 孝

About 西 孝


Applicant, Patent owner：
西 孝

About 西 孝


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000361931
Publication number (International publication number)：2002131518
Application date： Oct. 20, 2000
Publication date： May. 09, 2002
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 基板に対して任意の角度で、かつ表面形状を曲面などの任意の形状に形成可能なマイクロミラーおよびマイクロプリズムの製造方法を提供する。【解決手段】 フォトリソ工程において、所望のレジスト断面形状になるように透過光量を連続的に変化させた露光制御マスクを用いて、レジスト基板を露光・現像する工程、次にエッチング工程において、レジストとともに下地材料をRIEなどの異方性エッチングでエッチバックして、レジストの断面形状を下地材料に転写する工程、を特徴とするマイクロミラーとマイクロプリズムおよびその製造方法。
Claim (excerpt)：
露光量制御マスクを用いて露光・現像することにより、レジスト形状を傾斜形状もし〈は曲面形状に形成し、次にエッチング工程において、RIEなどの異方性エッチング条件で、前記レジストとともに下地材料をエッチバックして、レジストの断面形状を下地材料に転写する(以下、転写エッチングと呼ぶ)ことにより、所望の角度の傾斜面および所望の表面形状を有してなることを特徴とするマイクロミラーおよびマイクロプリズムの形成方法。
IPC (7)：
G02B 5/08 ,  B81B 1/00 ,  B81C 1/00 ,  G02B 5/04 ,  G02B 5/10 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 501
FI (7)：
G02B 5/08 C ,  B81B 1/00 ,  B81C 1/00 ,  G02B 5/04 E ,  G02B 5/10 C ,  G03F 1/08 G ,  G03F 7/20 501
F-Term (19)：
2H042CA15 ,  2H042DA10 ,  2H042DA11 ,  2H042DA12 ,  2H042DC08 ,  2H042DC11 ,  2H042DD06 ,  2H042DD07 ,  2H042DE04 ,  2H095BB02 ,  2H095BB32 ,  2H095BB33 ,  2H095BB36 ,  2H095BC09 ,  2H097BB01 ,  2H097GB02 ,  2H097JA02 ,  2H097LA15 ,  2H097LA20
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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