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J-GLOBAL ID：200903000198334923

CVD原料用気化装置およびこれを用いたCVD装置

Inventor： 松野 繁 ,  佐藤 剛彦 ,  山田 朗 ,  多留谷 政良 ,  山向 幹雄 ,  堀川 剛 ,  川原 孝昭 ,  内川 英興
Applicant, Patent owner： 三菱電機株式会社
Agent (1)： 宮田 金雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999081499
Publication number (International publication number)：2000273639
Application date： Mar. 25, 1999
Publication date： Oct. 03, 2000
Summary：

【要約】【課題】 未気化残渣の生成を抑制するCVD原料用気化装置を得る。【解決手段】 加熱壁面を有する気化器内8に噴霧ノズル7からCVD原料を噴霧し気化する。噴霧ノズル7は、冷却装置19で冷却された冷却液体により金属ブロック18を冷却することにより冷却され、噴霧ノズル7と気化器8は、熱伝導抑制手段21を介して溶着されている。

Claim (excerpt)：

導入されたCVD原料を加熱して気化する気化器、この気化器に端部が固着され、上記気化器内に上記CVD原料を噴霧する噴霧ノズル、この噴霧ノズルを冷却する冷却機構、並びに上記固着部または上記噴霧ノズルもしくは気化器の上記固着部近傍に設けた熱伝導抑制手段を備えたCVD原料用気化装置。

IPC (3)：

C23C 16/448 ,  B01J 7/02 ,  H01L 21/31

FI (3)：

C23C 16/44 C ,  B01J 7/02 Z ,  H01L 21/31 F

F-Term (32)：

4G068AB02 ,  4G068AB15 ,  4G068AC05 ,  4G068AD17 ,  4G068AD20 ,  4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030AA18 ,  4K030BA17 ,  4K030BA18 ,  4K030BA22 ,  4K030BA42 ,  4K030BA46 ,  4K030EA01 ,  4K030EA05 ,  4K030FA10 ,  4K030KA26 ,  4K030KA47 ,  4K030KA49 ,  4K030LA15 ,  5F045AB31 ,  5F045BB08 ,  5F045BB10 ,  5F045BB15 ,  5F045EB02 ,  5F045EB03 ,  5F045EE02 ,  5F045EF01 ,  5F045EF11 ,  5F045EJ01 ,  5F045EJ08 ,  5F045EJ09

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 液体原料用CVD装置、および液体原料を用いたCVDプロセスと、その液体原料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-057359   Applicant：三菱電機株式会社
• 光電変換素子収容真空容器
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-041085   Applicant：富士通株式会社
• 進行波管
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-018148   Applicant：三菱電機株式会社
• 特開平3-126872
  
• CVD装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-238315   Applicant：菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社, 三菱電機株式会社