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J-GLOBAL ID：200903000276427909

X線投影露光装置

Inventor：
押野 哲也

About 押野 哲也


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995312277
Publication number (International publication number)：1997153444
Application date： Nov. 30, 1995
Publication date： Jun. 10, 1997
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 スループットを低下させないで、作動中の解像度の低下を防止できるX線投影露光装置を提供する。【解決手段】 X線をマスク1上に照射する照明光学系、マスク1を保持するマスクステージ11、該マスク1からのX線9を受けてマスク1上に形成されたパターンをウエハー3上に投影結像する投影結像光学系2、及び該ウエハ3を保持するウェハステージ12を備え、投影結像光学系2からのX線9’の収差を測定する収差測定機構5と、収差測定時に前記ウェハステージ12を投影結像光学系2の結像位置から遠ざけて、収差測定機構5を結像位置またはその付近に配置させ、投影露光時に収差測定機構5を結像位置またはその付近から遠ざけて、前記ウェハステージ12を結像位置に配置させる移動機構4と、X線9’の収差を低減または解消する収差補正機構6、7、8と、を設ける。
Claim (excerpt)：
少なくとも、X線源、該X線源から発生するX線をマスク上に照射する照明光学系、該マスクを保持するマスクステージ、該マスクからのX線を受けて該マスク上に形成されたパターンをウエハー上に投影結像する投影結像光学系、及び該ウエハを保持するウェハステージを備えたX線投影露光装置において、前記投影結像光学系からのX線の収差を測定する収差測定機構と、前記X線の収差を低減または解消する収差補正機構と、を設けたことを特徴とするX線投影露光装置。
IPC (3)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 5/02
FI (3)：
H01L 21/30 531 A ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 5/02 X
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
  • 露光方法及び露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-318163   Applicant：株式会社日立製作所
  • 特開昭59-094032
  • 投影露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-237162   Applicant：株式会社ニコン
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