染料含有レジスト組成物及びそれを用いるカラーフィルター

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005035537
Publication number (International publication number)：2005275380
Application date： Feb. 14, 2005
Publication date： Oct. 06, 2005
Summary：

【課題】本願発明はカラーフィルターの薄膜化に対応すべく、染料濃度を高めることにより高いスペクトル再現性、高い耐光性、耐熱性を示し、且つ、5μm以下の高い解像性を持ちさらに現像残渣のないカラーレジスト組成物を提供する。【解決手段】樹脂(A)、光酸発生剤又は光塩基発生剤(B)、架橋性化合物(C)、及び全染料中にスルホン酸アミノエステル又はスルホン酸アンモニウム塩の構造を有する染料を40〜95重量%の割合で含有する染料混合物(D)を含有するレジスト組成物。樹脂(A)が、ポリビニルフェノール又はその共重合体である。400〜700nmの波長領域において、70%以上の透過率を示す領域と10%以下の透過率を示す領域とを少なくとも有する光学特性を示す。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

樹脂(A)、光酸発生剤又は光塩基発生剤(B)、架橋性化合物(C)、及び全染料中にスルホン酸アミノエステル又はスルホン酸アンモニウム塩の構造を有する染料を40〜95重量%の割合で含有する染料混合物(D)を含有するレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F7/004 , G02B5/20 , G02F1/1335

FI (6)：

G03F7/004 505 , G03F7/004 501 , G03F7/004 503A , G03F7/004 503B , G02B5/20 101 , G02F1/1335 505

F-Term (26)：

2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AB13 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025CB17 , 2H025CC17 , 2H048BA02 , 2H048BA45 , 2H048BA47 , 2H048BA48 , 2H048BB02 , 2H048BB42 , 2H048CA04 , 2H048CA14 , 2H048CA19 , 2H091FA02Y , 2H091FA35Y , 2H091FB02 , 2H091FB06 , 2H091FC05 , 2H091FC12 , 2H091LA15 , 2H091LA16

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

特開平4-163552号公報
ネガ型レジスト組成物及びそれを用いるカラーフィルターの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-201040 Applicant：住友化学工業株式会社

Cited by examiner (2)

ブラックマトリックス用色素、該色素を含むレジスト組成物、当該組成物を用いてブラックマトリックスを製造する方法、及び該方法により得られるブラックマトリックス
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-055792 Applicant：住友化学工業株式会社
マゼンタ用感光性着色組成物、カラーフィルターの製造方法、及びカラーフィルター
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-147866 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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