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J-GLOBAL ID：200903000379996740

露光方法及び装置

Inventor：
仲野 健一

About 仲野 健一


Applicant, Patent owner：
株式会社トプコン

About 株式会社トプコン


Agent (1)： 田辺 徹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002073435
Publication number (International publication number)：2003228169
Application date： Mar. 18, 2002
Publication date： Aug. 15, 2003
Summary：
【要約】【課題】 基板の大型化に対応すると共に、高速のスループットを実現することができる露光方法及び露光装置を提供する。【解決手段】 第1ステージと第2ステージにそれぞれマスクと基板を設けて配置し、露光光を反射ミラーを介して、第1ステージ側のマスク及び基板と第2ステージ側のマスクと基板に照射し、マスクを基板に転写する露光方法と、第1ステージと第2ステージにそれぞれマスクと基板を設けて配置し、露光光の光路を反射ミラーにより切り換えて、第1ステージ側のマスク及び基板と第2ステージ側のマスク及び基板に選択的に照射し、マスクを基板に転写することを特徴とする露光装置。
Claim (excerpt)：
第1ステージと第2ステージにそれぞれマスクと基板を配置し、第1ステージ側のマスク及び基板と第2ステージ側のマスク及び基板に選択的に露光光を照射し、マスクを基板に転写することを特徴とする露光方法。
F-Term (7)：
2H097CA06 ,  2H097CA12 ,  2H097DB07 ,  2H097DB11 ,  2H097DB14 ,  2H097LA11 ,  2H097LA12
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
  • レーザ露光システム
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-096335   Applicant：三菱電機株式会社
  • 特開昭63-021649
  • 露光装置、及び照明装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-059988   Applicant：株式会社ニコン
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