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J-GLOBAL ID:200903000379996740
露光方法及び装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
田辺 徹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002073435
Publication number (International publication number):2003228169
Application date: Mar. 18, 2002
Publication date: Aug. 15, 2003
Summary:
【要約】【課題】 基板の大型化に対応すると共に、高速のスループットを実現することができる露光方法及び露光装置を提供する。【解決手段】 第1ステージと第2ステージにそれぞれマスクと基板を設けて配置し、露光光を反射ミラーを介して、第1ステージ側のマスク及び基板と第2ステージ側のマスクと基板に照射し、マスクを基板に転写する露光方法と、第1ステージと第2ステージにそれぞれマスクと基板を設けて配置し、露光光の光路を反射ミラーにより切り換えて、第1ステージ側のマスク及び基板と第2ステージ側のマスク及び基板に選択的に照射し、マスクを基板に転写することを特徴とする露光装置。
Claim (excerpt):
第1ステージと第2ステージにそれぞれマスクと基板を配置し、第1ステージ側のマスク及び基板と第2ステージ側のマスク及び基板に選択的に露光光を照射し、マスクを基板に転写することを特徴とする露光方法。
F-Term (7):
2H097CA06
, 2H097CA12
, 2H097DB07
, 2H097DB11
, 2H097DB14
, 2H097LA11
, 2H097LA12
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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レーザ露光システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-096335
Applicant:三菱電機株式会社
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特開昭63-021649
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露光装置、及び照明装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-059988
Applicant:株式会社ニコン
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特開昭61-161719
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露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-042822
Applicant:日立電子エンジニアリング株式会社
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特開昭63-021649
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特開昭61-161719
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