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J-GLOBAL ID:200903000472620121
電子素子基板表面処理液用フィルターカートリッジ
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (6):
社本 一夫
, 栗田 忠彦
, 桜井 周矩
, 村上 清
, 細川 伸哉
, 小磯 貴子
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003128579
Publication number (International publication number):2004330056
Application date: May. 07, 2003
Publication date: Nov. 25, 2004
Summary:
【課題】半導体産業において使用される電子素子基板表面処理用の薬液、特にアミン、アンモニウム塩などの塩基性化合物やフッ酸(HF)などを構成成分として含む液の精製に好ましく利用することのできるフィルターカートリッジを提供する。【解決手段】本発明にかかる電子素子基板表面処理用の薬液を処理して薬液中に含まれている金属不純物を除去するために用いるフィルターカートリッジは、処理対象の薬液の構成成分及び除去すべき金属不純物の種類に応じて、除去対象の金属不純物の存在形態に適合する官能基が導入されたフィルター材料を組み込んだことを特徴とする。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
電子素子基板表面処理用の薬液を処理して薬液中に含まれている金属不純物を除去するために用いるフィルターカートリッジであって、処理対象の薬液の構成成分及び除去すべき金属不純物の種類に応じて、除去対象の金属不純物の存在形態に適合する官能基が導入されたフィルター材料を組み込んだことを特徴とするフィルターカートリッジ。
IPC (5):
B01J45/00
, B01J47/12
, G03F7/30
, G03F7/42
, H01L21/304
FI (7):
B01J45/00 J
, B01J45/00 K
, B01J47/12 B
, B01J47/12 E
, G03F7/30
, G03F7/42
, H01L21/304 648F
F-Term (9):
2H096AA25
, 2H096AA26
, 2H096AA27
, 2H096BA01
, 2H096BA09
, 2H096CA01
, 2H096GA01
, 2H096LA03
, 2H096LA30
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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レジスト成分からの金属不純物除去方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-234494
Applicant:オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
-
多孔質複合膜と方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平8-506015
Applicant:ミリポアコーポレイション
-
有機高分子材料及びその製造方法並びにそれから構成される重金属イオン除去剤
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-283842
Applicant:株式会社荏原製作所
-
水処理器用フィルター
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-023573
Applicant:三ツ星ベルト株式会社
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特開昭62-048725
-
フォトレジスト現像廃液の処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-265581
Applicant:オルガノ株式会社
-
特開平1-228560
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