製造不良解析システム、方法およびこれに関連したデータベースの生成方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高橋明夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993260615
Publication number (International publication number)：1995114601
Application date： Oct. 19, 1993
Publication date： May. 02, 1995
Summary：

【要約】【目的】製造工程における製造条件および各製品の設計条件、および不良実績を一括管理し、不良製品製造時の実績データに基づき、不良発生原因候補を提示する。その不良発生原因候補として工程および、問題となる製造条件を提示できるようにする。また、不良の原因と結果の因果関係に関するデータベースを容易に構築する。【構成】製造不良解析システムにおいて、製造条件、設計条件または不良傾向からなるチェック項目データベースを用いて不良解析をおこなう。また、ユーザノウハウ登録機能として、そのチェック項目データベースを、不良実績のデータを見る際の判断に用いた判断来歴を利用して、更新できるようにする。さらに、過去の不良率より判断した良品製造条件を用いて、不良原因の候補を絞り込む。

Claim (excerpt)：

製品の製造時における不良発生原因を、製造工程における製造条件または製品の設計条件から究明する製造不良解析システムにおいて、不良原因の解析をおこなう解析機能と、不良の発生原因と、その不良の発生原因となりうる製造条件管理項目もしくは設計仕様項目またはその不良の傾向を設定したチェック項目を記憶したチェック項目データベースとを有し、前記解析機能が前記チェック項目データベースにより、不良の発生実績からその不良の発生原因となりうる製造条件管理項目もしくは設計仕様項目またはその不良の傾向を検索し、提示することを特徴とする製造不良解析システム。

IPC (2)：

G06F 17/60 , H01L 21/66

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

品質情報診断解析方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-132196 Applicant：株式会社日立製作所
品質データ表示方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-219667 Applicant：株式会社日立製作所
生産管理システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-031132 Applicant：株式会社リコー

Show all

Return to Previous Page