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J-GLOBAL ID：200903000915647990

糖誘導体を用いる有機無機複合体および金属酸化物の製造方法

Inventor：
新海 征治

About 新海 征治

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天池 正登

About 天池 正登

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鄭 鐘和

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Applicant, Patent owner：
科学技術振興事業団

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天池 正登

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Agent (1)： 筒井 知
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000358862
Publication number (International publication number)：2002159848
Application date： Nov. 27, 2000
Publication date： Jun. 04, 2002
Summary：
【要約】【課題】 有機低分子ゲルを鋳型として、ナノスケールの金属酸化物(無機構造体)およびその原料となる有機無機複合体を製造する技術を提供する。【解決手段】 4位と6位がベンジリデン化され且つ1位にアミノフェニル基またはピリジル基が結合したグリコピラノシドと、金属酸化物の前駆体を含有するゾルゲル反応溶液とから得られる混合液中でグリコピラノシドのゲルを形成させた後、ゲル形成した系を保持して金属酸化物の重合を進行させることにより、グリコピラノシドの表面に金属酸化物が付着した有機無機複合体が得られ、さらに、この有機無機複合体からグリコピラノシドを除去することにより、金属酸化物(例えばシリカ)構造体が得られる。グリコピラノシドを構成する糖の種類に応じて、中空球状、蓮根状または円筒状の金属酸化物構造体が得られる。
Claim (excerpt)：
(1)イ.単糖類の4位と6位の水酸基がベンジリデン化され且つ1位にアミノフェニル基またはピリジル基がグリコシル結合したグリコピラノシド、ロ.金属酸化物の前駆体、該金属酸化物の前駆体からゾルゲル反応により金属酸化物の重合体を生成するための触媒および水から成るゾルゲル反応溶液、ならびに、ハ.必要により前記グリコピラノシドと前記ゾルゲル反応溶液とを溶解し得る有機溶媒、を含有する均一混合液を調製する工程、(2)イ.前記均一混合液を加熱した後、冷却するか、またはロ.前記均一混合液を冷却する、ことにより前記グリコピラノシドのゲルを形成させる工程、ならびに(3)前記ゲル形成した系を保持して、金属酸化物の重合を進行させる工程、を含むことを特徴とする、グリコピラノシドの表面に金属酸化物が付着した有機無機複合体の製造方法。
IPC (8)：
B01J 20/10 ,  B01J 20/28 ,  B01J 20/30 ,  C01B 13/14 ,  C01B 33/12 ,  C01G 1/02 ,  C07H 15/203 ,  C07H 17/02
FI (8)：
B01J 20/10 A ,  B01J 20/28 A ,  B01J 20/30 ,  C01B 13/14 Z ,  C01B 33/12 Z ,  C01G 1/02 ,  C07H 15/203 ,  C07H 17/02
F-Term (31)：
4C057AA18 ,  4C057JJ23 ,  4G042DA01 ,  4G042DB11 ,  4G042DB31 ,  4G042DE03 ,  4G042DE05 ,  4G042DE07 ,  4G042DE14 ,  4G066AA22B ,  4G066AB11D ,  4G066AB13D ,  4G066AB23A ,  4G066AB26D ,  4G066BA01 ,  4G066BA09 ,  4G066BA10 ,  4G066BA20 ,  4G066BA23 ,  4G066BA28 ,  4G066FA05 ,  4G066FA11 ,  4G066FA22 ,  4G072AA25 ,  4G072BB07 ,  4G072BB16 ,  4G072HH17 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ42 ,  4G072LL06 ,  4G072MM01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
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