荷電粒子ビーム装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001220685
Publication number (International publication number)：2003036808
Application date： Jul. 19, 2001
Publication date： Feb. 07, 2003
Summary：

【要約】【課題】 X軸、Y軸方向の線形ビームを形成するだけでなく、任意の方向の線形ビームは形成して、高精度なラインパターン描画の自由度を増し、高精度なパターン描画、欠陥検査、測長を可能する。【解決手段】荷電粒子ビーム源から放出された荷電粒子ビームを荷電粒子用レンズによって試料上に集束し、試料に照射した該電子ビームを偏向、走査する電子ビーム装置において、八極子または十二極子構造のレンズを2段以上組み合わせ、個々の電極または磁極の励起条件を制御することによりX方向、Y方向、及びXY軸から任意の角度に回転した方向に線形ビームを形成する。

Claim (excerpt)：

電子ビーム源から放出された電子ビームを荷電粒子用レンズによって試料上に集束し、試料に照射した該電子ビームを偏向、走査する電子ビーム装置において、八極子から構成されるレンズ系と該レンズ系の励起条件の制御により線形ビームを調整する制御系と、前記線形ビームを試料上に結像する対物レンズから構成され、試料上の線形ビームの偏向、走査によってパターン描画または、試料から放出される二次電子、反射電子等を利用してパターン寸法の計測、欠陥等の検出を行うことを特徴とする電子ビーム装置。

IPC (6)：

H01J 37/317 , G01B 15/00 , H01J 37/12 , H01J 37/141 , H01J 37/28 , H01L 21/027

FI (6)：

H01J 37/317 D , G01B 15/00 B , H01J 37/12 , H01J 37/141 A , H01J 37/28 B , H01L 21/30 502 V

F-Term (19)：

2F067AA21 , 2F067AA54 , 2F067AA62 , 2F067BB01 , 2F067BB04 , 2F067CC17 , 2F067EE04 , 2F067HH06 , 2F067JJ05 , 2F067KK04 , 2F067KK08 , 2F067MM02 , 2F067PP12 , 2F067QQ02 , 2F067RR20 , 5C033CC02 , 5C033DD09 , 5C033UU02 , 5C034DD03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開昭51-029091
特開昭56-145640
ウェーハパターンの欠陥検出方法及び同装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-041346 Applicant：株式会社東芝

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