ポジ型レジスト組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小栗昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001346121
Publication number (International publication number)：2003149800
Application date： Nov. 12, 2001
Publication date： May. 21, 2003
Summary：

【要約】【課題】感度と解像性に優れ、更には矩形なパターン形状、良好なエッジラフネスの特性をも満足するポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】特定の構造を有する、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、アルカリ水溶液に不溶又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶性となるポリマーを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A1)下記一般式(1)で表される構造を有する、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)アルカリ水溶液に不溶又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶性となるポリマーを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】式中、Wは、-CH2-、-CYH-、-NH-を表す。Yは、アリール基、又はアルキル基を表す。R1a〜R8aは、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、チオール基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、1級アミノ基、2級又は3級アミノ基、アルキル基、又はアルコキシル基より選択された基である。

IPC (5)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/004 501 , C07C 25/18 , C07C381/12 , H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/004 503 A , G03F 7/004 501 , C07C 25/18 , C07C381/12 , H01L 21/30 502 R

F-Term (17)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC03 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CA48 , 2H025CC20 , 2H025FA10 , 4H006AA03 , 4H006AB76

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-080666 Applicant：富士写真フイルム株式会社
ポジ型放射感応性混合物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-025753 Applicant：ヘキストジャパン株式会社
特開昭60-175046

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