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J-GLOBAL ID：200903024636819079

新規オニウム塩およびそれを含有する感放射性樹脂組成物

Inventor： 鈴木 泰弘 ,  石井 信治 ,  ドナルド ダブリュ.ジョンソン
Applicant, Patent owner： 東洋合成工業株式会社 ,  マイクロ ケム コーポレーション
Agent (1)： 栗原 浩之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998224532
Publication number (International publication number)：2000053601
Application date： Aug. 07, 1998
Publication date： Feb. 22, 2000
Summary：

【要約】【課題】 化学増幅型レジスト等に有用な新規オニウム塩、並びに該オニウム塩を含有し、光感度が高く、優れたレジストパターンが得られ、パターン形状の安定性等に優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 オニウム塩は下記構造からなる。また、感放射線性樹脂組成物は、下記構造のオニウム塩並びに酸解離基含有樹脂を含有する。【化1】【化2】

Claim (excerpt)：

下記式(1)または(2)で表されることを特徴とするオニウム塩。【化1】【化2】式中、R1及びR2は、同一でも異なっていてもよい芳香族有機基、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、フェナシル基を表す。R8〜R10は同一でも異なっていてもよい芳香族有機基、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、フェナシル基を表すか、またはこれらのうち2つが一緒になって2価の有機基を形成して硫黄原子とともに脂肪族もしくは芳香族の複素環式構造を形成していてもよい。R3〜R7は水素、ハロゲン、ニトロ基、低級アルコキシル基、低級アルキル基を表し、これらのうちの1つは第三級炭素原子を含むアルキル基であり、R3〜R7までの総炭素数は4〜7である。

IPC (14)：

C07C 25/02 ,  C07C 43/225 ,  C07C309/28 ,  C07C381/12 ,  C07D327/06 ,  C07D333/46 ,  C07D333/50 ,  C07D333/76 ,  C07D335/02 ,  C07D335/10 ,  C08L101/02 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601

FI (14)：

C07C 25/02 ,  C07C 43/225 C ,  C07C309/28 ,  C07C381/12 ,  C07D327/06 ,  C07D333/46 ,  C07D333/50 ,  C07D333/76 ,  C07D335/02 ,  C07D335/10 ,  C08L101/02 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601

F-Term (51)：

2H025AA01 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB52 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4C023JA05 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB78 ,  4H006AB92 ,  4H006AC30 ,  4H006AC60 ,  4H006AC61 ,  4H006BB14 ,  4H006BB15 ,  4H006BB16 ,  4H006BB17 ,  4H006BB20 ,  4H006BE10 ,  4J002BC121 ,  4J002BG011 ,  4J002BH011 ,  4J002CD052 ,  4J002CD061 ,  4J002CD062 ,  4J002EA036 ,  4J002EA066 ,  4J002EB126 ,  4J002EE036 ,  4J002EJ026 ,  4J002EJ077 ,  4J002ES006 ,  4J002ET017 ,  4J002EU187 ,  4J002EV236 ,  4J002EV296 ,  4J002FD142 ,  4J002FD147 ,  4J002GQ05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 多価アリールスルホニウム光活性化合物を含む光画像化可能な組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-044543   Applicant：シップレーカンパニーエルエルシー
• ネガ型画像記録材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-273392   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-276565   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 化学増幅ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-186167   Applicant：信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
• ポジ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-070372   Applicant：富士写真フイルム株式会社