Pat

J-GLOBAL ID：200903001295563259

構造体

Inventor： 西川 昭 ,  杉山 直樹
Applicant, Patent owner： ジェイエスアール株式会社
Agent (1)： 渡辺 喜平 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000354971
Publication number (International publication number)：2002154183
Application date： Nov. 21, 2000
Publication date： May. 28, 2002
Summary：

【要約】【課題】 耐擦傷性や透明性に優れた構造体を提供する。【解決手段】下記(A)〜(C)層を積層してなる構造体。(A)平均粒子径5〜300nmのシリカ粒子を含有する膜厚1〜30μmのハードコート層(B)平均粒子径5〜300nmの無機酸化物粒子を含有する膜厚0.05〜0.5μmの中間層であって、表面粗さRz(JIS B0601に準拠)が0.01〜2μmである中間層(C)フッ素化合物およびケイ素化合物、あるいはいずれか一方の化合物を含有する膜厚0.05〜0.5μmの表面層

Claim (excerpt)：

下記(A)〜(C)層を積層してなる構造体。(A)数平均粒子径5〜300nmのシリカ粒子を含有する膜厚1〜30μmのハードコート層(B)数平均粒子径5〜300nmの無機酸化物粒子を含有する膜厚0.05〜0.5μmの中間層であって、表面粗さRz(JIS B0601に準拠)が0.01〜2μmである中間層(C)フッ素化合物およびケイ素化合物、あるいはいずれか一方の化合物を含有する膜厚0.05〜0.5μmの表面層

IPC (10)：

B32B 27/20 ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 27/30 ,  C09C 1/30 ,  C09D 4/02 ,  C09D 5/00 ,  C09D 7/12 ,  C09D201/00 ,  G02B 1/11 ,  G02B 1/10

FI (10)：

B32B 27/20 Z ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 27/30 A ,  C09C 1/30 ,  C09D 4/02 ,  C09D 5/00 Z ,  C09D 7/12 ,  C09D201/00 ,  G02B 1/10 A ,  G02B 1/10 Z

F-Term (72)：

2K009AA02 ,  2K009AA15 ,  2K009BB24 ,  2K009CC03 ,  2K009CC09 ,  2K009CC24 ,  2K009CC26 ,  2K009DD02 ,  4F100AA17B ,  4F100AA28 ,  4F100AA29 ,  4F100AA33 ,  4F100AB11C ,  4F100AH05A ,  4F100AH06A ,  4F100AK02C ,  4F100AK17 ,  4F100AK17J ,  4F100AK21 ,  4F100AK21J ,  4F100AK25C ,  4F100AK41 ,  4F100AK51 ,  4F100AK51J ,  4F100AK52 ,  4F100AK52J ,  4F100AL01 ,  4F100AL06C ,  4F100AT00D ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100BA10D ,  4F100DD07B ,  4F100DE01B ,  4F100DE01C ,  4F100EJ54C ,  4F100GB41 ,  4F100JA20 ,  4F100JB14C ,  4F100JK09 ,  4F100JK12C ,  4F100JM02A ,  4F100JM02B ,  4F100JM02C ,  4F100JN01 ,  4F100JN18A ,  4F100JN18B ,  4J037AA18 ,  4J037CC16 ,  4J037CC26 ,  4J037CC28 ,  4J037DD05 ,  4J037EE02 ,  4J037EE11 ,  4J037FF17 ,  4J037FF18 ,  4J038FA121 ,  4J038HA446 ,  4J038KA08 ,  4J038KA14 ,  4J038KA20 ,  4J038MA14 ,  4J038NA01 ,  4J038NA05 ,  4J038NA10 ,  4J038NA11 ,  4J038NA14 ,  4J038NA19 ,  4J038NA21 ,  4J038PA17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (13)

• 反射防止膜およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-076489   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 反射防止膜及び反射防止部材
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-265807   Applicant：日東電工株式会社
• 低反射樹脂基材
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-050189   Applicant：住友化学工業株式会社
• 薄膜及びそれを利用した反射防止膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-190245   Applicant：東レ株式会社
• 耐擦傷性防眩フィルム、偏光板及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-311775   Applicant：大日本印刷株式会社
• 特開昭64-019301
  
• 反射防止膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-348700   Applicant：矢崎総業株式会社
• 光学的材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-193722   Applicant：フクビ化学工業株式会社
• 防眩性シート
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-111801   Applicant：大日本印刷株式会社
• 反射防止材料及びそれを用いた偏光フィルム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-286321   Applicant：株式会社巴川製紙所
• 反射防止フィルム及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-338943   Applicant：大日本印刷株式会社
• 特開昭64-000903
  
• 特開平3-025402