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J-GLOBAL ID：200903001538028330

プラズマ処理装置及び方法、ガス供給リング及び誘電体

Inventor： 本郷 俊明 ,  大沢 哲
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 藤元 亮輔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000085351
Publication number (International publication number)：2001274151
Application date： Mar. 24, 2000
Publication date： Oct. 05, 2001
Summary：

【要約】【課題】 本発明は、不純物を除去することにより被処理体への高品質な処理を施すことが可能なプラズマ処理装置及び方法を提供することを例示的目的とする。【解決手段】 本発明のプラズマ処理装置は、被処理体に所定のプラズマ処理を行う処理室と、前記被処理体を処理するためのガスを供給するガス供給機構と、前記処理室に接続されて当該処理室内を減圧状態に維持する第1の真空ポンプと、前記ガス供給機構に接続されて当該ガス供給機構を排気する第2の真空ポンプを有する。

Claim (excerpt)：

被処理体に所定のプラズマ処理を行う処理室と、前記被処理体を処理するためのガスを供給するガス供給機構と、前記処理室に接続されて当該処理室内を減圧状態に維持する第1の真空ポンプと、前記ガス供給機構に接続されて当該ガス供給機構を排気する第2の真空ポンプとを有するプラズマ処理装置。

IPC (4)：

H01L 21/31 ,  B01J 19/08 ,  C23C 16/511 ,  H01L 21/3065

FI (4)：

H01L 21/31 C ,  B01J 19/08 H ,  C23C 16/511 ,  H01L 21/302 B

F-Term (64)：

4G075AA24 ,  4G075BC01 ,  4G075BC06 ,  4G075BD03 ,  4G075BD05 ,  4G075CA02 ,  4G075CA03 ,  4G075CA26 ,  4G075CA47 ,  4G075CA63 ,  4G075DA02 ,  4G075EA05 ,  4G075EB01 ,  4G075EC06 ,  4G075FB02 ,  4G075FC15 ,  4K030AA06 ,  4K030AA13 ,  4K030AA17 ,  4K030AA18 ,  4K030BA29 ,  4K030BA40 ,  4K030EA05 ,  4K030EA06 ,  4K030EA11 ,  4K030FA01 ,  4K030KA12 ,  5F004BA04 ,  5F004BA20 ,  5F004BB14 ,  5F004BC06 ,  5F045AA08 ,  5F045AB32 ,  5F045AB33 ,  5F045AC01 ,  5F045AC02 ,  5F045AC12 ,  5F045AC15 ,  5F045AC16 ,  5F045AC17 ,  5F045AC18 ,  5F045AD04 ,  5F045AD06 ,  5F045AD07 ,  5F045AD08 ,  5F045AD09 ,  5F045AE13 ,  5F045AE15 ,  5F045AE17 ,  5F045AF03 ,  5F045BB14 ,  5F045DC51 ,  5F045DC56 ,  5F045DP03 ,  5F045EF04 ,  5F045EF05 ,  5F045EG01 ,  5F045EH02 ,  5F045EH04 ,  5F045EH11 ,  5F045EH16 ,  5F045EH17 ,  5F045EJ03 ,  5F045EJ05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-367222
  
• プラズマ処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-320914   Applicant：東京エレクトロン株式会社
• プラズマ処理装置およびスパッタ装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-270187   Applicant：株式会社フロンテック, 大見忠弘, アルプス電気株式会社