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J-GLOBAL ID：200903001613013212

流体分離フィルタの製造方法

Inventor： 佐郷 文昭 ,  由宇 喜裕 ,  大嶋 仁英
Applicant, Patent owner： 京セラ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002081001
Publication number (International publication number)：2003275551
Application date： Mar. 22, 2002
Publication date： Sep. 30, 2003
Summary：

【要約】【課題】クラック発生を抑制するとともに、高い透過速度を有する流体分離フィルタの製造方法を提供する。【解決手段】Si、Ti、Zr、Alの少なくとも1種の金属とポリビニルピロリジノンを含むゾルを作製し、該ゾルを支持体2の表面に塗布した後に焼成して分離膜3を作製すること、又は、Si、Ti、Zr、Alの少なくとも1種の金属とポリビニルピロリジノンを含むゾルを作製し、該ゾルを支持体2の表面に塗布した後に焼成して中間層5を作製し、しかる後に該中間層5の上に分離膜3を形成することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

ゾルゲル法を用いて支持体の上に分離膜を形成する流体分離フィルタの製造方法において、Si、Ti、Zr、Alの少なくとも1種の金属及びポリビニルピロリジノンを含むゾルを作製し、該ゾルを支持体の表面に塗布した後に焼成して分離膜を作製することを特徴とする流体分離フィルタの製造方法。

IPC (3)：

B01D 69/12 ,  B01D 71/02 ,  B01D 71/02 500

FI (3)：

B01D 69/12 ,  B01D 71/02 ,  B01D 71/02 500

F-Term (22)：

4D006GA02 ,  4D006GA41 ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MA06 ,  4D006MA09 ,  4D006MA21 ,  4D006MB15 ,  4D006MB16 ,  4D006MC02X ,  4D006NA46 ,  4D006NA49 ,  4D006NA63 ,  4D006PA02 ,  4D006PB03 ,  4D006PB08 ,  4D006PB32 ,  4D006PB62 ,  4D006PB64 ,  4D006PB66 ,  4D006PC11 ,  4D006PC71

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 水素ガス分離フィルタおよびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-309649   Applicant：京セラ株式会社
• 二酸化炭素分離膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-176776   Applicant：財団法人電力中央研究所