Pat

J-GLOBAL ID：200903091672535892

水素ガス分離フィルタおよびその製造方法

Inventor： 大嶋 仁英 ,  積 洋二
Applicant, Patent owner： 京セラ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999309649
Publication number (International publication number)：2001120969
Application date： Oct. 29, 1999
Publication date： May. 08, 2001
Summary：

【要約】【課題】水素ガスを含有する混合ガスから該水素ガスを選択的かつ効率的に分離する水素ガス分離フィルタおよびその製造方法を提供する。【解決手段】非晶質シリカ質骨格2と骨格2内に形成された細孔径が10nm以下の多数の細孔3とを有する水素ガス分離フィルタ1の骨格2内および/または水素ガス分離フィルタ1の少なくとも表面および/または細孔3内壁に平均粒径0.2〜10nmの周期律表第8族金属粒子4が分散する水素ガス分離フィルタ1を用いて、水素ガスを含む混合ガスから該水素ガスを選択的かつ効率的に透過、分離する。

Claim (excerpt)：

非晶質シリカ質骨格と該骨格内に形成された細孔径が10nm以下の多数の細孔とを有する水素ガス分離フィルタであって、前記骨格内に平均粒径0.2〜10nmの周期律表第8族金属粒子が分散してなることを特徴とする水素ガス分離フィルタ。

IPC (5)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 53/22 ,  B01D 71/70 500 ,  C01B 3/56 ,  C01B 33/12

FI (5)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 53/22 ,  B01D 71/70 500 ,  C01B 3/56 Z ,  C01B 33/12 A

F-Term (48)：

4D006GA41 ,  4D006HA21 ,  4D006HA41 ,  4D006JA02A ,  4D006JA02C ,  4D006JA03Z ,  4D006KA12 ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MA07 ,  4D006MA09 ,  4D006MA22 ,  4D006MA31 ,  4D006MB04 ,  4D006MB16 ,  4D006MC02 ,  4D006MC02X ,  4D006MC03 ,  4D006MC03X ,  4D006MC65 ,  4D006MC65X ,  4D006NA32 ,  4D006NA39 ,  4D006PA05 ,  4D006PB13 ,  4D006PB66 ,  4D006PC80 ,  4G040FA06 ,  4G040FC02 ,  4G040FC06 ,  4G040FD06 ,  4G040FE01 ,  4G072AA38 ,  4G072BB09 ,  4G072BB13 ,  4G072GG02 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ28 ,  4G072JJ30 ,  4G072LL11 ,  4G072PP01 ,  4G072PP03 ,  4G072RR04 ,  4G072RR05 ,  4G072RR12 ,  4G072RR15 ,  4G072UU30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 水素分離材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-246155   Applicant：東燃株式会社
• 積層無機分離体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-206519   Applicant：京セラ株式会社
• 無機分離膜及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-205020   Applicant：京セラ株式会社