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J-GLOBAL ID：200903001861703063

アルカリ溶液の純化方法及び半導体ウェーハのエッチ ング方法

Inventor： 中野 正己 ,  内山 勇雄 ,  味戸 利夫 ,  工藤 秀雄
Applicant, Patent owner： 信越半導体株式会社
Agent (1)： 石原 詔二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996218503
Publication number (International publication number)：1997129624
Application date： Aug. 20, 1996
Publication date： May. 16, 1997
Summary：

【要約】【課題】 アルカリ溶液中の金属不純物、特に金属イオンを低コストで極めて効率よく非イオン化することを可能としたアルカリ溶液の純化方法ならびにこの純化されたアルカリ溶液を用いて半導体ウェーハの品質を劣化させることなくエッチングを行なうことを可能とした半導体ウェーハのエッチング方法を提供する。【解決手段】 金属シリコン及び/又はシリコン化合物をアルカリ溶液中に溶解し、このとき発生する反応生成物によりアルカリ溶液中の金属イオンを非イオン化する。

Claim (excerpt)：

金属シリコン及び/又はシリコン化合物をアルカリ溶液中に溶解し、このとき発生する反応生成物によりアルカリ溶液中の金属イオンを非イオン化することを特徴とするアルカリ溶液の純化方法。

IPC (4)：

H01L 21/308 ,  C01D 1/28 ,  C30B 29/06 ,  C30B 33/10

FI (4)：

H01L 21/308 B ,  C01D 1/28 A ,  C30B 29/06 B ,  C30B 33/10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 薬液中重金属除去フィルタ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-190603   Applicant：株式会社日立製作所
• 金属不純物除去方法およびその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-230699   Applicant：日本電気株式会社
• リン酸の精製方法及び半導体装置の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-028097   Applicant：富士通株式会社
• 過酸化水素の精製法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-105585   Applicant：三菱瓦斯化学株式会社
• シリコンウエーハのエッチング方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-202583   Applicant：信越半導体株式会社
• 特開昭55-074142