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J-GLOBAL ID:200903001877291598
気体溶解装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (5):
渡邉 勇
, 堀田 信太郎
, 小杉 良二
, 森 友宏
, 廣澤 哲也
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006025006
Publication number (International publication number):2007203188
Application date: Feb. 01, 2006
Publication date: Aug. 16, 2007
Summary:
【課題】たとえ入口部で気体が過剰に供給されていても、気泡が除去され、且つ気体を高い濃度で均一に溶解した気体溶解液を、大幅に省エネルギー化して製造できるようにする。【解決手段】 通路内を流動する液体に気体を注入する気体注入部10と、気体注入部10の下流側に配置され、液体に気体を注入した気液混合液に圧力を加える加圧部14と、加圧部14の下流側に配置された回転空間32と、回転空間32の回転軸心の近傍位置と外部空間及び/または加圧部14の上流側の通路とを連通する連通部52,54を有する。【選択図】図2
Claim (excerpt):
通路内を流動する液体に気体を注入する気体注入部と、
前記気体注入部の下流側に配置され、前記液体に気体を注入した気液混合液に圧力を加える加圧部と、
前記加圧部の下流側に配置された回転空間と、
前記回転空間の回転軸心の近傍位置と外部空間及び/または前記加圧部の上流側の通路とを連通する連通部を有することを特徴とする気体溶解装置。
IPC (3):
B01F 5/02
, B01F 1/00
, B01D 19/00
FI (3):
B01F5/02 Z
, B01F1/00 A
, B01D19/00 102
F-Term (6):
4D011AA06
, 4D011AC04
, 4D011AC06
, 4D011AD10
, 4G035AA01
, 4G035AC19
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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微細気泡発生装置のノズル
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-276005
Applicant:松下電器産業株式会社
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微細気泡発生装置および微細気泡発生システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-069506
Applicant:資源開発株式会社
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特開平4-295361号公報
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微細気泡発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-171547
Applicant:松下電器産業株式会社
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往復動ポンプ式動力回収システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-104310
Applicant:日機装株式会社
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