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J-GLOBAL ID：200903001885022504

パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法

Inventor：
高島 正伸

About 高島 正伸


Applicant, Patent owner：
富士フイルム株式会社

About 富士フイルム株式会社


Agent (3)： 廣田 浩一 ,  流 良広 ,  松田 奈緒子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005373567
Publication number (International publication number)：2007178459
Application date： Dec. 26, 2005
Publication date： Jul. 12, 2007
Summary：
【課題】感光層の感度低下を効果的に抑制でき、高感度な感光層が得られ、かつ基体に対して凹凸追従性に優れ、より高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。【解決手段】支持体上に、クッション層と感光層とをこの順に有するパターン形成材料において、該感光層が、増感剤として蛍光増白剤を含み、かつ、該感光層を露光し現像する場合において、該感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが0.1〜50mJ/cm2であることを特徴とするパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置、及び該パターン形成材料を用いて露光するパターン形成方法である。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
支持体上に、クッション層と感光層とをこの順に有するパターン形成材料において、該感光層が、増感剤として蛍光増白剤を含み、かつ、該感光層を露光し現像する場合において、該感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが0.1〜50mJ/cm2であることを特徴とするパターン形成材料。
IPC (6)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/11 ,  G03F 7/26 ,  G03F 7/20 ,  H05K 3/28 ,  H05K 3/00
FI (8)：
G03F7/004 503Z ,  G03F7/004 512 ,  G03F7/11 503 ,  G03F7/26 501 ,  G03F7/20 501 ,  H05K3/28 C ,  H05K3/00 G ,  H05K3/00 F
F-Term (43)：
2H025AA01 ,  2H025AB11 ,  2H025AB15 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC32 ,  2H025BC42 ,  2H025BC51 ,  2H025CA01 ,  2H025CA14 ,  2H025CA18 ,  2H025CA23 ,  2H025CA28 ,  2H025CA31 ,  2H025CA39 ,  2H025CA48 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB43 ,  2H025DA40 ,  2H025FA17 ,  2H096AA26 ,  2H096BA05 ,  2H096BA20 ,  2H096CA05 ,  2H096EA04 ,  2H096GA08 ,  2H096LA16 ,  2H097AA03 ,  2H097AA11 ,  2H097AB05 ,  2H097BB03 ,  2H097CA06 ,  2H097CA17 ,  2H097DB12 ,  2H097FA06 ,  2H097HA00 ,  2H097LA09 ,  2H097LA11 ,  5E314AA27 ,  5E314CC15 ,  5E314DD07 ,  5E314GG26
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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