同軸型真空アーク蒸着源

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：石島茂男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001379473
Publication number (International publication number)：2003183816
Application date： Dec. 13, 2001
Publication date： Jul. 03, 2003
Summary：

【要約】【課題】同軸型真空アーク蒸着源により薄膜を成膜する際に、成膜された薄膜の膜厚を確実に制御することができる技術を提供する。【解決手段】本発明の同軸型真空アーク蒸着源3は、蒸着材料43が円錐状に形成され、その中心軸線43bと垂直な方向の大きさである蒸着材料の幅が、筒状のアノード電極30の開口30aの方向に向けて、徐々に小さくなるように構成されている。このため、トリガ放電により蒸着材料43が蒸発して空洞が形成され、空洞内部から蒸着材料43の構成粒子が放出されても、空洞内部から放出された構成粒子が蒸着材料43に再付着しにくくなる。従って、蒸着材料の構成粒子は、再付着した構成粒子により妨げられることなく空洞外部へ放出され、各トリガ放電ごとにアノード電極30内部から放出される構成粒子の量を一定に保ち、一回の放電で基板表面に成膜される薄膜の膜厚を一定にすることができる。

Claim (excerpt)：

筒状のアノード電極と、前記アノード電極の中空内部に配置されたトリガ電極と、前記トリガ電極と、前記アノード電極の開口との間に配置された蒸着材料とを有し、前記アノード電極と蒸着材料との間に電圧を印加した状態で、トリガ電極と前記蒸着材料との間にトリガ放電を発生させると、前記蒸着材料を構成する物質からなる微小粒子が飛び出し、該微小粒子によって前記アノード電極と前記蒸着材料との間にアーク放電が誘起され、前記蒸着材料から前記微小粒子が飛び出し、前記開口から放出されるように構成された同軸型真空アーク蒸着源であって、前記アノード電極の中心軸線と垂直な方向における前記蒸着材料の大きさである前記蒸着材料の幅は、前記開口方向に向けて徐々に小さくされた同軸型真空アーク蒸着源。

F-Term (3)：

4K029CA03 , 4K029DB07 , 4K029DD06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

蒸着源、蒸着装置及び蒸着方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-108680 Applicant：日本真空技術株式会社
特開昭53-106390
特開昭53-106390

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