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J-GLOBAL ID：200903002279114580

リソグラフィ装置およびデバイス製造方法

Inventor： ペトルス リュトゲルス バートライ ,  ウィルヘルムス ジョセフス ボックス ,  ヤン ヤープ クイト ,  カルロ コーネリス マリア ルイユテン ,  ベルナルデュス アントニウス ヨハネス ルッティクイス ,  ミカエル テン ボマー ,  フェルディ ミクケルブリンク
Applicant, Patent owner： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
Agent (4)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  森 徹 ,  吉田 裕
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004328305
Publication number (International publication number)：2005150732
Application date： Nov. 12, 2004
Publication date： Jun. 09, 2005
Summary：

【課題】性能の問題を回避しながら、製造コストを低減する基準フレーム材料を提供する。【解決手段】基板Wを保持するための基板テーブルWT、基板Wの目標部分上にパターン化されたビームを投影するための投影システムPL、および基板Wが測定される基準面を供給するための独立基準フレームMFを備えるリソグラフィ装置であって、基準フレームMFは熱膨張係数の大きい材料を含有するとともに、所定の材料の複合、サンドイッチまたは積層構造とする。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

リソグラフィ装置であって、 放射線の投影ビームを供給するための照明システムと、 投影ビームにあるパターンの断面の形を与える働きをするパターニング手段を支持するための支持構造と、 基板を保持するための基板テーブルと、 基板の目標部分上に前記パターン化されたビームを投影するための投影システムと、 前記基板を測定するための基準面を供給するための独立基準フレームとを備え、 前記基準フレームが熱膨張係数の大きい材料を含有することを特徴とするリソグラフィ装置。

IPC (2)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (3)：

H01L21/30 515Z ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 516E

F-Term (9)：

5F046BA04 ,  5F046CA08 ,  5F046CC01 ,  5F046CC16 ,  5F046DA07 ,  5F046DA26 ,  5F046DB02 ,  5F046DB05 ,  5F046DC14

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特開平3-198320
  
• 投影露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-117408   Applicant：キヤノン株式会社
• 平板投影装置、素子製造方法およびそれによって製造された素子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-234593   Applicant：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ

Cited by examiner (3)

• 平板投影装置、素子製造方法およびそれによって製造された素子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-234593   Applicant：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ
• 投影露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-117408   Applicant：キヤノン株式会社
• 特開平3-198320