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J-GLOBAL ID：200903080656008007

投影露光装置

Inventor：
高林 幸夫

About 高林 幸夫


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 伊東 哲也 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997117408
Publication number (International publication number)：1998303112
Application date： Apr. 22, 1997
Publication date： Nov. 13, 1998
Summary：
【要約】【課題】 投影露光装置における支持構造体の軽量化、高剛性化を図る。【解決手段】 転写される原版を保持する原版台と、投影光学系と、該投影光学系を経て露光される基板を保持する基板ステージとを有する投影露光装置において、該原版台、該投影光学系および該基板ステージを支持する支持体の一部分あるいは全部をセラミックス材料またはそれと金属部材とが一体焼結された複合体で構成する。
Claim (excerpt)：
転写される原版を保持する原版台と、投影光学系と、該投影光学系を経て露光される基板を保持する基板ステージとを有し、該原版台、該投影光学系および該基板ステージを支持する支持体の一部分あるいは全部がセラミックス材料と金属部材とが一体焼結された複合体からなることを特徴とする投影露光装置。
IPC (4)：
H01L 21/027 ,  C04B 37/02 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68
FI (5)：
H01L 21/30 514 Z ,  C04B 37/02 Z ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68 N ,  H01L 21/30 503 Z
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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