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J-GLOBAL ID：200903002339197839

露光用マスクとその製造方法及び製造装置

Inventor： 川野 健二 ,  伊藤 信一 ,  東川 巌 ,  伊藤 正光
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993304186
Publication number (International publication number)：1995104457
Application date： Dec. 03, 1993
Publication date： Apr. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】 露光光の照射に伴う半透明膜の物性変動を防止することができ、パターン転写精度の向上に寄与し得る露光用のハーフトーン型位相シフトマスクを提供すること。【構成】 透明基板101上にSiNからなる半透明膜102を所望パターンに形成してなる露光用のハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、半透明膜102の露光波長における吸収帯に含まれる波長の光を基板101側から半透明膜102に照射することにより、基板101と半透明膜102との境界部分に、露光光の照射に伴う半透明膜102の物性変動を防止するための安定化層103を形成したことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

透光性基板上に所望パターンに形成された半透明膜と、前記透光性基板と半透明膜との境界部分に形成され、露光光の照射に伴う半透明膜の物性変動を防止するための安定化層とを具備してなることを特徴とする露光用マスク。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• 特開平4-204653
  
• 特開平4-136854
  
• ハーフトーン位相シフトフオトマスク
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-287832   Applicant：大日本印刷株式会社
• 特開平4-162039
  
• 露光用マスク及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-089589   Applicant：株式会社東芝
• ハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス、ハーフトーン位相シフトフォトマスク、及び、それらの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-188586   Applicant：大日本印刷株式会社
• ハーフトーン位相シフトフォトマスクの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-173199   Applicant：大日本印刷株式会社