ハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス、ハーフトーン位相シフトフォトマスク、及び、それらの製造方法

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：韮澤弘 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993188586
Publication number (International publication number)：1995043887
Application date： Jul. 30, 1993
Publication date： Feb. 14, 1995
Summary：

【要約】【目的】ブランクス又はフォトマスク作製後においても、位相シフト部の透過率を変えることができ、様々なパターンに対応でき、大量生産可能なハーフトーン位相シフトフォトマスク及びそのためのブランクス。【構成】ハーフトーン位相シフト層の露光光透過率を、その成膜工程、又は、フォトマスク製造工程と分離された、150°C以上の高温にさらす工程、酸化性雰囲気中にさらす工程、還元雰囲気中にさらす工程等によって、1%から50%の間に含まれる範囲内で任意に変える。これにより、ブランクス又はフォトマスク製造後に所望の露光光透過率に調節でき、転写パターンの寸法、面積、配置、形状等によって最適なハーフトーン位相シフトフォトマスクを得ることができる。

Claim (excerpt)：

透明基板上にハーフトーン位相シフト層を有するハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクスにおいて、前記ハーフトーン位相シフト層の成膜工程と分離された別工程により、前記透明基板を100%としたときの前記ハーフトーン位相シフト層の露光光に対する透過率を、1%から50%の間に含まれる範囲内で変えることができることを特徴とするハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス。

IPC (2)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 528

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (10)

特開平4-136854
フオトマスク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-152084 Applicant：日本電気株式会社
マスクとそれを用いた投影露光方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-177816 Applicant：日本電信電話株式会社

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Cited by examiner (10)

位相シフトマスクおよびその製造方法ならびにその位相シフトマスクを用いた露光方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-285327 Applicant：アルバック成膜株式会社, 三菱電機株式会社
特開平4-136854
フオトマスク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-152084 Applicant：日本電気株式会社

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