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J-GLOBAL ID：200903002411724113

光学素子及びその製造方法

Inventor： 西 井 準 治 ,  金 高 健 二 ,  川 本 泰 ,  堀 尾 浩 司
Applicant, Patent owner： 独立行政法人産業技術総合研究所 ,  株式会社モリテックス
Agent (1)： 澤野 勝文 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001321501
Publication number (International publication number)：2003121619
Application date： Oct. 19, 2001
Publication date： Apr. 23, 2003
Summary：

【要約】【課題】透過する光の波長にかかわらず、光が透過する際にその境界面で生じる反射及び散乱を少なくして、光透過率をより向上させる。【解決手段】パターニング工程(S1)で、透光性基材(2)の表面に塗布形成された感光性レジスト膜(5)に光の波長レベル又はそれ以下の周期の格子パターンを露光し、レジスト膜(5)を現像した後、エッチング工程(S2)で透光性基材(2)の表面にドライエッチングを施して格子パターンに応じた格子溝(9)を形成することにより格子溝(9)間に周期的な突条又は突起(3)を形成し、コーティング工程(S3)で突条又は突起(3)による表面の周期形状に沿って少なくとも屈折率が基材と等しい材料でオーバーコート層(4)を形成するようにした。

Claim (excerpt)：

透光性基材(2)の表面に、光の波長レベル又はそれ以下の周期の微小な突条又は突起(3)が配列形成されると共に、前記突条又は突起(3)による表面の周期形状に沿って前記基材(2)と少なくとも屈折率の等しいオーバーコート層(4)が形成されたことを特徴とする光学素子。

IPC (6)：

G02B 5/02 ,  C03C 15/00 ,  C03C 17/22 ,  G02B 1/10 ,  G02B 3/00 ,  G02B 5/18

FI (6)：

G02B 5/02 C ,  C03C 15/00 D ,  C03C 17/22 Z ,  G02B 3/00 Z ,  G02B 5/18 ,  G02B 1/10 Z

F-Term (28)：

2H042BA04 ,  2H042BA12 ,  2H042BA14 ,  2H042BA15 ,  2H042BA16 ,  2H049AA03 ,  2H049AA13 ,  2H049AA34 ,  2H049AA37 ,  2H049AA45 ,  2H049AA51 ,  2H049AA59 ,  2H049AA60 ,  2H049AA64 ,  2H049AA65 ,  2K009AA01 ,  2K009BB02 ,  2K009DD12 ,  2K009DD17 ,  2K009FF01 ,  4G059AA11 ,  4G059AB09 ,  4G059AB11 ,  4G059AC01 ,  4G059AC04 ,  4G059GA01 ,  4G059GA04 ,  4G059GA16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平1-252902
  
• 2方向周期微細格子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-355832   Applicant：株式会社島津製作所
• 光学素子の作製方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-301709   Applicant：キヤノン株式会社