光学素子の作製方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：日比谷征彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999301709
Publication number (International publication number)：2000199813
Application date： Oct. 22, 1999
Publication date： Jul. 18, 2000
Summary：

【要約】【課題】マスク位置合わせ誤差による回折効率の低下を防止したSiO2より成るバイナリ型回折光学素子を作製する。【解決手段】バイナリ型回折格子を刻み込んだSiO2基板11上にRFスパッタリング法により同一のSiO2の薄膜12を成膜して、基板11の表面上にマスクの位置合わせ誤差等により生ずる微細な凹凸形状を最小膜厚で被覆することによって平坦化して、回折効率の低下を防止する。

Claim (excerpt)：

基板上に凹凸構造を形成した後に、前記構造の上部に前記構造の形状エラーを修復する膜を形成することを特徴とする光学素子の作製方法。

IPC (4)：

G02B 5/18 , G02B 1/11 , G03F 7/20 501 , C23C 14/06

FI (4)：

G02B 5/18 , G03F 7/20 501 , C23C 14/06 Z , G02B 1/10 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

光学素子の製作方法及び該光学素子を用いた照明装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-281830 Applicant：キヤノン株式会社
特開昭59-188606
光ヘッド装置の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-006595 Applicant：旭硝子株式会社

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