微小液滴及びその作成方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005084730
Publication number (International publication number)：2006231310
Application date： Feb. 24, 2005
Publication date： Sep. 07, 2006
Summary：

【課題】磁気処理及び微小気泡の技術を応用し、新しい性質を持った微小液滴を作成する方法を開発する。【解決手段】気液混合装置を用いて直径1μm以下の安定な微小気泡を含む微小液滴を作成する。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

直径1μm以下の特定気体の気泡を含有する微小液滴。

IPC (4)：

B01F 3/04 , B01F 7/16 , B05B 7/04 , C02F 1/48

FI (4)：

B01F3/04 C , B01F7/16 F , B05B7/04 , C02F1/48 A

F-Term (25)：

4D061DA10 , 4D061DB06 , 4D061EA18 , 4D061EC05 , 4D061EC19 , 4D061FA20 , 4F033QA05 , 4F033QB02Y , 4F033QB03X , 4F033QD02 , 4G035AB19 , 4G035AC24 , 4G035AE05 , 4G078AA01 , 4G078AB20 , 4G078BA05 , 4G078BA09 , 4G078CA01 , 4G078CA05 , 4G078CA12 , 4G078CA17 , 4G078DA30 , 4G078DC10 , 4G078EA01 , 4G078EA10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

流体の磁気処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-165864 Applicant：和田明郎

Cited by examiner (8)

焼却炉の排ガス処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-080221 Applicant：エムエヌエンジニアリング株式会社
微小気泡含有液状物及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-274054 Applicant：アイシーエス株式会社
廃棄物処理工場における悪臭抑制方法およびその方法の実施に用いられる悪臭抑制装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-115394 Applicant：株式会社ビ-・シ-・オ-

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