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J-GLOBAL ID：200903002482498297

ナノプリント用スタンパ、及び微細構造転写方法

Inventor： 荻野 雅彦 ,  宮内 昭浩 ,  元脇 成久 ,  桑原 孝介
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 平木 祐輔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003078460
Publication number (International publication number)：2004288845
Application date： Mar. 20, 2003
Publication date： Oct. 14, 2004
Summary：

【課題】ナノプリント法において、基板からスタンパを剥離する工程を高精度かつ容易に行うことを目的とする。【解決手段】プレス装置を用い、基板上に微細構造を形成するためのスタンパにおいて、前記スタンパが剥離機構を有することを特徴とするナノプリント用スタンパ、及び該スタンパを用いるパターン転写方法。【選択図】 図3

Claim (excerpt)：

プレス装置を用い、基板上に微細構造を形成するためのスタンパにおいて、前記スタンパが剥離機構を有することを特徴とするナノプリント用スタンパ。

IPC (3)：

H01L21/3205 ,  B29C59/02 ,  B81C5/00

FI (3)：

H01L21/88 B ,  B29C59/02 B ,  B81C5/00

F-Term (39)：

4F209AA36 ,  4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AJ01 ,  4F209AJ09 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PH02 ,  4F209PH21 ,  4F209PH27 ,  4F209PN03 ,  4F209PN04 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA03 ,  5D112BA10 ,  5D112GA20 ,  5D112GB07 ,  5D121CA01 ,  5F033HH00 ,  5F033JJ00 ,  5F033KK11 ,  5F033MM02 ,  5F033PP15 ,  5F033PP27 ,  5F033PP28 ,  5F033QQ09 ,  5F033QQ11 ,  5F033QQ41 ,  5F033QQ46 ,  5F033RR04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• インプリント方法およびインプリント装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-084681   Applicant：日本電信電話株式会社
• パタ-ン形成方法及び半導体装置の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-370629   Applicant：富士通株式会社
• 特開平2-289311
  
• リソグラフィ・プロセス用のスタンプ
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平9-508254   Applicant：インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーシヨン
• 特開平2-305612
  
• 光学素子の製造方法及び光学素子製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-036045   Applicant：オムロン株式会社
• 特開平2-289311